WALMART CHILE S.A.

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54 días
Expira 27/01/2026

Architect II, Gerencia Tecnología

Architect II, Gerencia Tecnología

Presencial

Descripción del Puesto

El equipo de Tecnología está en la búsqueda de su próximo/a Architect II para hacer la diferencia. Valoramos tu historia y lo que te hace único/a, promoviendo una cultura donde puedes ser tu mejor versión y contribuir a mejorar la vida de las personas.

Desafíos Principales

  • Liderar y construir colaborativamente el to-be de las soluciones técnicas alineadas con la estrategia tecnológica a nivel C2 y C3.
  • Guiar y documentar decisiones de arquitectura que impliquen integraciones cross dominio / productos a nivel C2 y C3.
  • Colaborar en la definición y adopción de estándares de tecnología y patrones de diseño a nivel C2 y C3.
  • Alinear con arquitectos en roles estratégicos respecto a decisiones de arquitectura tácticas y estratégicas a nivel C2 y C3.

Candidato Ideal

  • Título en Ingeniería en Sistemas, Computación y/o Informática.
  • Más de 10 años de experiencia en desarrollo de software, site reliability y/o arquitectura de software.
  • Experiencia con stakeholders de todo nivel.
  • Conocimientos en arquitectura de sistemas distribuidos y diseño evolutivo.
  • Experiencia en domain driven design y patrones de diseño.
  • Inglés avanzado.
  • Experiencia en productos digitales que abarcan varios dominios de negocio.

Ubicación y Inclusividad

Ubicación: Huechuraba, Metropolitana.
Esta vacante es apta para personas con discapacidad. Nuestra visión es fomentar un ambiente de trabajo inclusivo, diverso, colaborativo y de respeto.

Proceso de Selección

El proceso de selección se realiza a través de AIRA, una plataforma diseñada para mejorar tu experiencia de postulación.

Pasos para Postular

  1. Postular a la oferta.
  2. Revisar tu correo electrónico.
  3. Ingresar a AIRA y contestar las preguntas y/o pruebas solicitadas.

Si tu perfil se ajusta a lo que estamos buscando, te contactaremos por email (a través de AIRA) para seguir a la etapa presencial.